2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

2013年3月28日(木) 14:00 〜 18:30 G6 (B5号館 1F-2106)

[28p-G6-16] △レーザスポット長軸傾斜スキャンによるSiラテラル成長の成長方向制御 (6:00 PM ~ 6:15 PM)

○(B)森岡遼太,葉文昌 (島根大 総合理工)

キーワード:レーザ結晶化