2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

2013年3月28日(木) 14:00 〜 18:30 G6 (B5号館 1F-2106)

[28p-G6-2] 反応性スパッタ製膜したSiNx膜の電気特性評価 (2:15 PM ~ 2:30 PM)

岡田竜弥,屋宜佳佑,井村公彦,野口隆 (琉球大 工)

キーワード:Thin Film Transistor