[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-3] クロロシラン系原料分解における水素ラジカル発生源の検討 (2:30 PM ～ 2:45 PM)

^○久保田誠^1,2，池田直樹^1,2，鯉沼秀臣³，石垣隆正²，角谷正友¹ (物材機構¹，法政大²，東大新領域³)

キーワード：水素ラジカル、熱フィラメント法、シリコン