[28p-G8-1~14] 13.2 半導体表面

[28p-G8-12] △加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるPMMA系ポリマーの分解機構の解明Ⅱ (4:00 PM ～ 4:15 PM)

^○能登雄佑¹，新井祐¹，高橋聖司¹，河野昭彦¹，石川健治²，堀勝²，堀邊英夫¹ (金沢工大¹，名古屋大²)

キーワード：水素ラジカル、レジスト用ベースポリマー、還元分解除去