[28p-G8-1~14] 13.2 半導体表面

[28p-G8-4] in situ XPSによる湿度制御雰囲気下でのGeO₂/Ge構造の観察：Ge3dスペクトル形状の湿度依存性 (1:45 PM ～ 2:00 PM)

^○有馬健太¹，村敦史¹，秀島伊織¹，細井卓治¹，渡部平司¹，Zhi Liu² (阪大院工¹，バークレー国立研²)

キーワード：ゲルマニウム酸化物、X線光電子分光、濡れ性