[28p-PA4-1~11] 4.3 レーザー装置・材料

[28p-PA4-2] 異方性レーザーセラミックス作成における配向制御に関する考察 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○佐藤庸一，平等拓範 (分子研)

キーワード：セラミックレーザー、異方性、配向制御