[29p-B1-1~20] 7.4 Nanoimprint

[29p-B1-2] Gap pattern narrowing by multiple patterning on nanoelectrode lithography

^○Atsushi Yokoo^1,2, Gediminas Dauderis¹, Makoto Fukuda³, Masaya Notomi^1,2 (NTT-NPC, NTT Corp.¹, NTT-BRL, NTT Corp.², Hirosaki Univ.³)

Keywords:ナノインプリント、ケミカル・ナノインプリント、ナノ電極リソグラフィ