2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム

シンポジウム » ・シリコン系薄膜形成技術の新展開

[29p-B8-1~10] シリコン系薄膜形成技術の新展開

2013年3月29日(金) 13:30 〜 17:45 B8 (K2号館 4F-1406)

[29p-B8-1] 貼り合わせハイブリッド基板とその応用(30分) (1:30 PM ~ 2:00 PM)

久保田芳宏,飛坂優二,秋山昌次,諏訪剛史,永田和寿,小西繁,川合信 (信越化学工業)

キーワード:シリコン