2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム

シンポジウム » ・シリコン系薄膜形成技術の新展開

[29p-B8-1~10] シリコン系薄膜形成技術の新展開

2013年3月29日(金) 13:30 〜 17:45 B8 (K2号館 4F-1406)

[29p-B8-3] 溶液プロセスによるSi薄膜の作製と電子デバイス応用(30分) (2:30 PM ~ 3:00 PM)

下田達也1,2,3,増田貴史1.2,松木安生2,4 (北陸先端大1,科学技術振興機構2,科学技術振興機構3,JSR4)

キーワード:液体シリコン、シクロペンタシラン、Si TFT