[29p-D2-1~19] 4.7 レーザー・プロセッシング

[29p-D2-4] △高繰り返しKrFエキシマレーザーによるP-implanted ZnOナノロッドのポストアニール (2:15 PM ～ 2:30 PM)

^○（M2）下垣哲也，大藤太平，鉄山紀弘，岡﨑功太，東畠光洋，池上浩，中村大輔，浅野種正，岡田龍雄 (九大システム情報科学)

キーワード：酸化亜鉛、レーザーアニール、高繰り返しレーザー