2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[29p-F1-1~17] 6.4 薄膜新材料

2013年3月29日(金) 14:00 〜 18:45 F1 (E3号館 1F-102)

[29p-F1-8] コプラナー型沿面放電による磁場下での酸化スズ膜の形成 (4:15 PM ~ 4:30 PM)

花井利通,伊豫田正彦,鍋田圭吾,奥谷昌之 (静岡大工)

キーワード:沿面放電、酸化スズ、プラズマ