2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[29p-F2-1~19] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年3月29日(金) 14:00 〜 19:00 F2 (E3号館 3F-303)

[29p-F2-5] △VLS法を用いた単結晶NiOナノワイヤの創成および抵抗変化メモリ特性 (3:00 PM ~ 3:15 PM)

長島一樹1,柳田剛1,金井真樹1,Baeho Park2,川合知二1,2 (阪大産研1,建国大2)

キーワード:ナノワイヤ、NiO、抵抗変化メモリ