2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.1 探索的材料物性

[29p-G7-1~19] 14.1 探索的材料物性

2013年3月29日(金) 13:00 〜 18:00 G7 (B5号館 2F-2201)

[29p-G7-16] 希ガス混合Si薄膜における酸素の低減化Ⅱ (5:00 PM ~ 5:15 PM)

奥村竜二1,羽渕仁恵2,藤田詩織1,飯田民夫1,大橋史隆3,久米徹二3,伴隆幸3,野々村修一3 (岐阜高専1,豊田高専2,岐阜大工3)

キーワード:クラスレート、薄膜、シリコン