2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.4 配線技術

[29p-PB2-1~3] 13.4 配線技術

2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:30 PB2 (第二体育館)

[29p-PB2-3] 二段階熱処理法により形成したNiシリサイドナノワイヤの抵抗率形状依存性 (1:30 PM ~ 3:30 PM)

Jinhan Song1,松本一輝1,角嶋邦之2,アヘメト パールハット1,片岡好則2,西山彰2,杉井信之2,筒井一生2,名取研二1,服部健雄1,岩井洋1 (東工大フロンティア研1,東工大総理工2)

キーワード:Nanowire