[29p-PB4-2] ▲HRXRD分析による高Al濃度4H-SiC厚膜の結晶構造評価 (1:30 PM ~ 3:30 PM)
キーワード:p-type 4H-SiC、Chemical vapor deposition、Lattice parameter
一般セッション(ポスター講演)
15.結晶工学 » 15.6 IV族系化合物
2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:30 PB4 (第二体育館)
キーワード:p-type 4H-SiC、Chemical vapor deposition、Lattice parameter