2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

07.ビーム応用 » 7.2 電子顕微鏡,評価,測定,分析

[30a-B1-1~10] 7.2 電子顕微鏡,評価,測定,分析

2013年3月30日(土) 09:00 〜 11:45 B1 (K2号館 3F-1301)

[30a-B1-10] ラインパターンにおける二次電子放出効率のアスペクト比依存性 (11:30 AM ~ 11:45 AM)

備前大輔1,早田康成1,数見秀之2 (日立中研1,日立ハイテク2)

キーワード:走査電子顕微鏡、二次電子放出