PDF ダウンロード スケジュール 0 いいね! 0 [30a-G20-6] Ar:Cl2 mixture ratio study on Neutral Beam etching of GaAs (10:15 AM ~ 10:30 AM) ○Cédric Thomas1,3,田村洋典1,3,五十嵐誠1,3,Mohd Erman Fauzi1,3,肥後昭男2,胡衛国1,3,久保田智広1,寒川誠二1,2,3 (東北大流体研1,東北大WPI-AIMR2,JST-CREST3) キーワード:GaAs、量子ドット、XPS