[30a-G6-1~11] 13.4 配線技術

[30a-G6-5] ALD-Co(W)バリヤ膜上に形成したCVD-Cu膜の密着性と初期核発生 (10:00 AM ～ 10:15 AM)

^○（M2）嶋紘平，清水秀治，百瀬健，霜垣幸浩 (東大院工)

キーワード：Cu-CVD