[30a-G6-1~11] 13.4 配線技術

[30a-G6-6] マイクロ波プラズマ励起大口径中性粒子ビームCVDによる高密度な超低誘電率SiCOHの成膜（2） (10:30 AM ～ 10:45 AM)

^○菊地良幸^1,2，和田章良¹，寒川誠二^1,3 (東北大流体研¹，東京エレクトロン技術研²，東北大WPI-AIMR³)

キーワード：low-k膜、マイクロ波プラズマ、中性粒子ビームCVD