2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.1 探索的材料物性

[30a-G7-1~10] 14.1 探索的材料物性

2013年3月30日(土) 09:00 〜 11:45 G7 (B5号館 2F-2201)

[30a-G7-2] スパッタリング法によるエピタキシャルMg2Si膜の作製 (9:15 AM ~ 9:30 AM)

片桐淳生1,小川正太1,松島正明1,秋山賢輔1,2,舟窪浩1 (東工大院1,神奈川県産業技術センター2)

キーワード:薄膜、熱電材料、スパッタリング法