[30a-G7-1~10] 14.1 探索的材料物性

[30a-G7-2] スパッタリング法によるエピタキシャルMg₂Si膜の作製 (9:15 AM ～ 9:30 AM)

^○片桐淳生¹，小川正太¹，松島正明¹，秋山賢輔^1,2，舟窪浩¹ (東工大院¹，神奈川県産業技術センター²)

キーワード：薄膜、熱電材料、スパッタリング法