PDF ダウンロード スケジュール 1 いいね! 1 [30p-G19-1] 赤外線集中加熱浮遊帯域溶融(IR-FZ)法で育成したSi結晶中の炭素不純物の低減 (1:00 PM ~ 1:15 PM) ○綿打敏司1,2,柳本一樹1,長尾雅則1,田中功1,渡辺崇司3,進藤勇3 (山梨大院クリスタル研1,JST-さきがけ2,クリスタルシステム3) キーワード:浮遊帯域溶融法、シリコン、結晶成長