■ピコアンメータ ■fA用電流計 ■酸素モニター

■低インダクタンスアンテナを用いた大面積プラズマCVD成膜装置およびスパッタ成膜装置

■委託/受託加工(UVレーザによる微細加工) ■デスクトップ型UVレーザ加工装置

■スパッタリングターゲット、蒸着材、貴金属化合物、白金系るつぼ、貴金属コロイド、薄膜電極、プレックスシート、貴金属ペースト

■酸化ガリウム単結晶基板は、当社が世の中に先駆け実用化を進めている材料であり、可視光から紫外光領域まで透明で、電気を流すことができる新しい半導体用基板です。この基板を用いることで、今までにない大光量の光を出すLEDや超高耐圧のパワーデバイスの実現が可能となります。

■半導体レーザー/ガルバノスキャナ　等

■YAGレーザー薄膜加工システム ■ワイヤーボンダー ■マイクロプロービングユニット ■精密電気計測用各種部品

TBD

■（1）SPECS Surface Nano Analysis社: 1）コンポーネント：PHOIBOS半球型エネルギーアナライザ, TOFスペクトロメータ, EELSスペクトロメータ, X線源（XR 50/XR 50 NAP）, X線モノクロメータ, UV光源, UVモノクロメータ, 電子源, イオン源, EB蒸着源, プラズマ源, フラッドガン, LEED/AES, NAP-RHEED, ...

■超小型超音波モータ ■小型ロボット ■AF用VCMユニット ■中空モータ ■小型光学式エンコーダ

■パネル、カタログ、PCモニター

■テラヘルツ分光システム ■比抵抗/ホール測定システム ■極低温プローバー

■スパッタリングターゲット ■MOCVD材料

■化合物半導体用有機金属（MO） ■太陽電池用MO ■シリコン半導体用MO ■エキシマレーザーガス、希ガス ■横浜研究所 ■アベルブラック（ＳＵＳ特殊処理） ■安定同位体ガス ■配管部品、各種フィルター ■特殊ウエハ ■石英部品製作・修理 ■高感度水分計、酸素計