09:00 〜 09:45
○多加谷明広1,2 (慶大院理工1,KPRI2)
一般セッション(口頭講演)
03.光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2014年9月17日(水) 09:00 〜 11:30 C7 (C213)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:45
○多加谷明広1,2 (慶大院理工1,KPRI2)
09:45 〜 10:00
○(B)久保雄紀,藤村隆史 (宇大CORE)
10:00 〜 10:15
○石橋幸成1,渋谷拓人1,大賀順平1,平井義彦2,赤井恵1,桑原裕司1,3,齋藤彰1,3 (阪大院工1,阪府大院工2,理研/SPring-83)
休憩10:15~10:30 (10:15 〜 10:30)
10:30 〜 10:45
○町田佳輔,藤田賢一,足立健治 (住友金属鉱山)
10:45 〜 11:00
○吉尾里司,槙孝一郎,足立健治 (住友金属鉱山)
11:00 〜 11:15
○保田一成,渋谷猛久,若木守明 (東海大)
11:15 〜 11:30
○石野正人,石川貴之,表篤志,田頭健司,金子由利子,綾洋一郎 (パナソニック先端技研)