一般セッション(口頭講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[18p-A19-1~14] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月18日(木) 14:00 〜 17:45 A19 (E311)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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昼食12:30～14:00 (12:30 〜 14:00)

14:00 〜 14:15

△ [18p-A19-1] 1次元プラズモニックメタマテリアル吸収体による偏光検知非冷却赤外線センサ

^○（M2）高川陽輔¹，小川新平²，増田恭平¹，宮下晃一¹，木股雅章¹ (立命館大¹，三菱電機²)

14:15 〜 14:30

[18p-A19-2] 高機能非冷却赤外線センサの高性能化I:3次元プラズモニックメタマテリアル吸収体の基礎検討

^○小川新平¹，藤澤大介¹，秦久敏¹，植月満治¹，三崎浩司¹，木股雅章² (三菱電機¹，立命館大²)

14:30 〜 14:45

[18p-A19-3] 高機能非冷却赤外線センサの高性能化Ⅱ:3次元プラズモニックメタマテリアル吸収体の光学特性

^○藤澤大介¹，小川新平¹，秦久敏¹，植月満治¹，三崎浩司¹，木股雅章² (三菱電機¹，立命館大²)

14:45 〜 15:00

[18p-A19-4] 焦電型赤外線センサの感度向上に向けた配線材料薄膜化

^○（M1）米丸翔太¹，大石浩史¹，赤井大輔^1,2，石田誠^1,2 (豊橋技科大工¹，豊橋技科大EIRIS²)

15:00 〜 15:15

△ [18p-A19-5] アルミ微細周期構造による表面プラズモンを利用したフレキシブルカラーフィルムの製作

^○（B）熊谷隼人，本間浩章，高橋一浩，石田誠，澤田和明 (豊橋技術科学大)

15:15 〜 15:30

[18p-A19-6] 薄膜PZT-MEMSバイモルフ構造を用いた自励発振システム

^○（M2）井上純一，松田貴文，神田健介，藤田孝之，前中一介 (兵庫県大工)

15:30 〜 15:45

[18p-A19-7] 三次元Si加工基板上へのPZT成膜と評価

^○（M1）森上慎悟，井上純一，神田健介，藤田孝之，前中一介 (兵県大工)

15:45 〜 16:00

[18p-A19-8] 太陽光励起レーザーと組み合わせるためのシリコン光電変換素子

^○竹田康彦¹，飯塚英男¹，伊藤忠¹，水野真太郎¹，長谷川和男¹，市川正¹，伊藤博¹，梶野勉¹，樋口和夫^1,2，一木輝久²，元廣友美² (豊田中研¹，名大²)

休憩16:00～16:15 (16:00 〜 16:15)

16:15 〜 16:30

[18p-A19-9] バッファアンプを搭載するマイクロプローブ細胞外電極アレイ

^○（M1）牧野浩樹¹，浅井皓平¹，田中将徳¹，石田誠^1,2，河野剛士¹ (豊橋技科大¹，EIIRIS²)

16:30 〜 16:45

[18p-A19-10] Ir/SiO₂マイクロチューブ，ガラス管アレイ集積化神経電極デバイス

^○（M1）松尾朋幸¹，中邨友彦¹，坂田真浩¹，山際翔太¹，澤畑博人¹，石田誠^1,2，河野剛士¹ (豊橋技科大¹，EIIRIS²)

16:45 〜 17:00

△ [18p-A19-11] ビーズを用いたPDMS製細菌捕獲チップの検討 Ⅱ- 蛍光強度の時間依存性蛍光強度の時間依存性 -

^○西村祐典¹，林隆平¹，中澤寛一¹，石田誠¹，澤田和明¹，石井仁¹，町田克之^2,3，益一哉²，吉田眞一⁴，齋藤光正⁴ (豊橋技科学大電気・電子情報工学¹，東工大²，NTT-AT³，九大医学研究院⁴)

17:00 〜 17:15

△ [18p-A19-12] 材料判別を実現する熱伝導率センサ集積型メッシュ状シリコン触覚イメージャ

^○大杉亮太，高木優佑，前田祐作，寺尾京平，鈴木孝明，下川房男，高尾英邦 (香川大)

17:15 〜 17:30

[18p-A19-13] 圧電MEMS振動発電における銅めっきによる錘の形成

^○村上修一¹，苅谷健人²，吉村武²，長瀧敬行¹，中出卓男¹，佐藤和郎¹，藤村紀文² (大阪府立産技研¹，大阪府立大²)

17:30 〜 17:45

[18p-A19-14] アルミ薄膜を用いた陽極接合による真空封止技術

^○唐澤賢志，杉山剛，田家良久，浜田秀史，吉田宜史 (セイコーインスツル)