昼食11:45~13:15 (11:45 〜 13:15)
セッション情報
一般セッション(口頭講演)
合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
[19p-A12-1~16] 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
2014年9月19日(金) 13:15 〜 17:45 A12 (E301)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:15 〜 13:45
南内嗣,○西祐希,宮田俊弘 (金沢工大)
13:45 〜 14:00
○寺村瑞樹,谷口凱,石川博康 (芝浦工大)
14:00 〜 14:15
○稲葉克彦1,小林信太郎1,八木信治2,松尾昌幸2,小池一歩2,原田義之2,佐々誠彦2,矢野満明2 (リガク1,大阪工大2)
14:15 〜 14:30
○(M2)八木信治1,松尾昌幸1,小池一歩1,原田義之1,佐々誠彦1,矢野満明1,稲葉克彦2 (大工大ナノ材研センタ1,リガクX線研究所2)
14:30 〜 14:45
○(B)須和祐太,川原村敏幸 (高知工大シス工)
14:45 〜 15:00
○北島雅士,鈴木規央,金子健太郎,藤田静雄 (京大院工)
15:00 〜 15:15
○伊藤義人,北島雅士,鈴木規央,金子健太郎,藤田静雄 (京大院工)
15:15 〜 15:30
○(D)野村一城1,後藤健2,富樫理恵1,村上尚1,熊谷義直1,倉又朗人2,山腰茂伸2,纐纈明伯1 (東京農工大院工1,タムラ製作所2)
休憩15:30~15:45 (15:30 〜 15:45)
15:45 〜 16:00
○(M1)桝谷聡士1,村上竜一1,輿公祥2,倉又朗人2,飯塚和幸2,嘉数誠1 (佐賀大院工1,タムラ製作所2)
16:00 〜 16:15
○永井哲也,野網健悟,中居克彦,二木登史郎 (日鉄住金テクノロジー)
16:15 〜 16:30
○(M1)木口拓也1,野瀬幸則1,上原剛2,藤村紀文1 (阪府大院工1,積水インテグレーテッドリサーチ2)
16:30 〜 16:45
○赤沢方省 (NTT MI研)
16:45 〜 17:00
○鈴木健太,金子健太郎,伊藤義人,赤岩和明,藤田静雄 (京大院工)
17:00 〜 17:15
松山慶太朗1,○大島孝仁1,吉松公平1,大友明1,2 (東工大院理工1,東工大元素戦略2)
17:15 〜 17:30
○(DC)鈴木一誓1,長谷拓1,喜多正雄2,井口雄喜3,佐藤千友紀3,柳博3,大橋直樹4,小俣孝久1 (阪大1,富山高専2,山梨大3,物材機構4)
17:30 〜 17:45
○中込真二,平塚慧祐,國分義弘 (石巻専修大理工)