[19p-A20-1~10] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

2014年9月19日(金) 13:30 〜 16:15 A20 (E312)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

昼食12:15～13:30 (12:15 〜 13:30)

13:30 〜 13:45

[19p-A20-1] ナノロッドを導入したPLD-REBa₂Cu₃O_y薄膜における臨界電流特性のナノロッド材料・RE種に対する影響

^○堀井滋¹，一瀬中²，春田正和³，土井俊哉¹ (京大院エネ科¹，電中研²，同志社大³)

13:45 〜 14:00

^○渡邊俊哉¹，吉田隆¹，一野祐亮¹，吉積正晃²，和泉輝郎²，加藤丈晴³ (名大工¹，ISTEC-SRL²，JFCC³)

14:00 〜 14:15

^○一瀬中¹，鶴田彰宏²，渡邊俊哉²，杉原和樹²，一野祐亮²，吉田隆² (電中研¹，名大工²)

14:15 〜 14:30

^○寺西亮¹，大田黒賢也¹，山田和広¹，金子賢治¹，吉積正晃²，和泉輝郎² (九州大工¹，超電導工研²)

14:30 〜 14:45

^○堀出朋哉，松本要 (九工大)

休憩14:45～15:00 (14:45 〜 15:00)

15:00 〜 15:15

^○宮地優悟，奥西亮太，舩木修平，山田容士 (島大総理工)

15:15 〜 15:30

^○舩木修平¹，山田容士¹，宮地優悟¹，奥西亮太¹，西郡至誠² (島大総理工¹，島大総科研支セ²)

15:30 〜 15:45

^○中順平¹，内間貴之¹，堀井滋^1,2，土井俊哉^1,2，一瀬中^2,3 (京大院エネ科¹，JST-ALCA²，電中研³)

15:45 〜 16:00

^○内間貴之¹，中順平¹，橋本真幸¹，堀井滋^1,2，土井俊哉^1,2，一瀬中^2,3 (京大院エネ科¹，科学技術振興機構²，電中研³)

16:00 〜 16:15

^○一瀬中^1,3，中順平²，内間貴之²，堀井滋^2,3，土井俊哉^2,3 (電中研¹，京大院エネ科²，JST-ALCA³)