昼食12:00~13:15 (12:00 〜 13:15)
セッション情報
一般セッション(口頭講演)
08.プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理
[19p-S9-1~5] 8.3 プラズマ成膜・表面処理
2014年9月19日(金) 13:15 〜 14:30 S9 (S9)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:15 〜 13:30
○山川裕1,2,宮崎裕司1,釆山和弘1,井上浩1,清水雅弘2,西正之2,平尾一之2 (サクラクレパス1,京大院工2)
13:30 〜 13:45
○菱川敬太1,2,宮﨑裕司1,釆山和弘1,井上浩1,酒井道2 (サクラクレパス1,京大院工2)
13:45 〜 14:00
○小川大輔,中野由崇,中村圭二 (中部大)
14:00 〜 14:15
○嶋林正晴1,栗原一彰2,佐々木浩一1 (北大工1,東芝研究開発センター2)
14:15 〜 14:30
○關雅志1,田沼千秋2 (東芝テック1,法政大2)