昼食12:00~13:00 (12:00 〜 13:00)
セッション情報
一般セッション(口頭講演)
06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
[20p-A10-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス
2014年9月20日(土) 13:00 〜 15:00 A10 (E214)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:15
○吉武道子1,ミハイロ チューンダーク1,2,ミカエル ヴァーツラブ1,2,ウラジミール マトリン2,知京豊裕1 (物材機構1,チェコカレル大2)
13:15 〜 13:30
○Jisong Jin1,角嶋邦之2,片岡好則2,西山彰2,杉井信之2,若林整2,筒井一生2,名取研二1,岩井洋1 (東工大フロンティア研1,東工大総理工2)
13:30 〜 13:45
○(M1)杉浦みのり1,Mokhammad Hadi1,角嶋邦之2,片岡好則2,西山彰2,杉井信之2,若林整2,筒井一生2,名取研二1,岩井洋1 (東工大フロンティア研1,東工大総理工2)
13:45 〜 14:00
○中村敏浩1,山田昌樹2,酒井道2 (大阪電通大工1,京大院工2)
14:00 〜 14:15
○鶴岡徹1,2,Ilia Valov3,4,長谷川剛1,2,Rainer Waser3,4,青野正和1 (物材機構1,JST-CREST2,アーヘン工科大3,ユーリヒ研究機構4)
14:15 〜 14:30
○西義史1,2,Stephan Menzel1,Karsten Fleck1,Ulrich Boettger1,Rainer Waser1 (アーヘン工科大1,東芝研開セ2)
14:30 〜 14:45
○兼平達也,宮邉徹,小渕敦生,中岡俊裕 (上智大理工)
14:45 〜 15:00
○加藤誠一,児子精祐,木戸義勇 (物材機構)