昼食12:00~13:00 (12:00 〜 13:00)
セッション情報
一般セッション(口頭講演)
03.光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
[20p-C8-1~6] 3.5 レーザー装置・材料
2014年9月20日(土) 13:00 〜 14:30 C8 (C310)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:15
○湯本正樹1,斎藤徳人1,Taichen Lin2,青木章2,中島貞洋1,長坂啓吾1,和泉雄一2,和田智之1 (理研1,東京医科歯科大2)
13:15 〜 13:30
○戸倉川正樹1,W Clarkson2,Jae Daniel2 (電通大レーザー研1,ORC, Uni.Southampton2)
13:30 〜 13:45
○(M1)北島将太朗1,中尾博明1,白川晃1,八木秀喜2,柳谷高公2 (電通大レーザー研1,神島化学工業2)
13:45 〜 14:00
○中尾博明1,白川晃1,植田憲一1,八木秀喜2,柳谷高公2,Birgit Weichelt3,Katrin Wentsch3,Marwan Abdou Ahmed3,Thomas Graf3 (電通大レーザー研1,神島化学工業2,シュトゥットガルト大3)
14:00 〜 14:15
○東祐軌1,富田貴之1,布施純一1,中尾博明1,白川晃1,植田憲一1,呉竹悟志2,金高祐二2,村山浩二2,田中伸彦2,Alexander A. Kaminskii3 (電通大レーザー研1,村田製作所2)
14:15 〜 14:30
○時田茂樹1,マーティン ディボッキー2,スンイン ファン1,川嶋利幸3,西岡一4,河仲準二1 (阪大レーザー1,チェコ科学アカデミー2,浜松ホトニクス3,電通大先進理工4)