[17a-A10-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[17a-A10-9] DCマグネトロンスパッタ法を用いたβ-MoO₃(011)エピタキシャル薄膜の作製

^○清水亮太¹，山本邦子¹，鈴木竜¹，大澤健男²，白木将¹，一杉太郎¹ (東北大AIMR¹，物材機構²)

キーワード：モリブデン酸化物,マグネトロンスパッタ法,低温成膜