[17a-S10-1~11] 8.プラズマエレクトロニクス 英語セッション

▼ [17a-S10-6] Influence of annealing on properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition

^○Lingyun Jia¹, Da Xu¹, Masayuki Nakamura¹, Hirotsugu Sugiura¹, Hiroki Kondo², Kenji Ishikawa², Makoto Sekine², Makoto Sekine² (Nagoya University¹, PLASMA NANOTECHNOLOGY RESEARCH CENTER, NAGOYA UNIVERSITY²)

キーワード：amorphous carbon film