[17p-A11-1~17] 6.4 薄膜新材料

[17p-A11-11] PLD法によるSr₂SiO₄多結晶体ターゲットを用いたSr₂SiO₄薄膜のSi基板上への作製

^○（M1）今西啓司¹，谷脇将太¹，堀田育志^1,3，吉田晴彦^1,3，新船幸二^1,3，小椋厚志^2,3，佐藤真一^1,3 (兵庫県立大¹，明治大²，JST-CREST³)

キーワード：Sr2SiO4