[17p-A14-1~12] 界面ナノ電子化学： 半導体ウェットプロセスの最前線

[17p-A14-7] 溶液との界面化学に基づく次世代半導体表面の原子レベル構造制御（30分）

^○有馬健太 (阪大院工)

キーワード：半導体表面,溶液処理,表面科学