[17p-A5-1~18] 12.1 作製・構造制御

[17p-A5-17] ナノミスト堆積法(多電極型静電塗布法)を用いたAlq₃/α-NPD薄膜積層構造の成膜評価

^○高塚祐輔¹，西大紀¹，菊池昭彦^1,2 (上智大理工¹，上智大ナノテクセンター²)

キーワード：静電塗布,低分子,積層