[17p-B1-4~15] 17.2 構造制御・プロセス

[17p-B1-7] 水素終端化シリコン基板への酸化グラフェンの固定化

^○國府翔，屠宇迪，一井崇，宇都宮徹，杉村博之 (京大院工)

キーワード：酸化グラフェン,水素終端化シリコン,酸化グラフェン還元体