[17p-PA5-1~22] 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[17p-PA5-3] 常圧N₂/O₂リモートプラズマを用いたZnO薄膜のCVD成長における不純物取り込みと伝導機構

^○（DC）野瀬幸則¹，木口拓也¹，吉村武¹，芦田淳¹，上原剛²，藤村紀文¹ (阪府大院工¹，積水化学²)

キーワード：ZnO,CVD,常圧プラズマ