[17p-S9-1~17] 3.7 レーザープロセシング

△ [17p-S9-11] 紫外レーザーアニーリングによるGa₂O₃薄膜の室温配向結晶化

^○塩尻大士¹，福田大二¹，山内涼輔¹，金子智^2,1，土峰信男³，織田真也⁴，松田晃史¹，吉本護¹ (東工大¹，神奈川県産技センター²，豊島製作所³，ROCA⁴)

キーワード：酸化ガリウム,パルスレーザー堆積法,レーザーアニーリング