2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18a-A10-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2014年9月18日(木) 09:15 〜 11:45 A10 (E214)

09:45 〜 10:00

[18a-A10-3] 電気化学的手法により製膜したCu2O薄膜の特性評価

辻玄貴,滝口雄貴,宮島晋介 (東工大院理工)

キーワード:酸化銅(Ⅰ)