2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[18a-A11-1~10] 6.4 薄膜新材料

2014年9月18日(木) 09:00 〜 11:45 A11 (E215)

10:00 〜 10:15

[18a-A11-5] 炭素添加したInSiOチャネル材料の特性

栗島一徳1,2,生田目俊秀2,三苫伸彦2,木津たきお2,塚越一仁2,澤田朋実2,大井暁彦2,山本逸平2,3,大石知司3,知京豊裕2,小椋厚志1 (明治大1,物材機構WPI-MANA2,芝浦工大3)

キーワード:炭素添加