2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[18a-A22-1~12] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2014年9月18日(木) 09:00 〜 12:15 A22 (E314)

09:00 〜 09:15

[18a-A22-1] プラズマ照射により不活性化されたn型GaN中ドナーの再活性化メカニズムの検討

横山大樹,中村成志,奥村次徳 (首都大理工)

キーワード:GaN,欠陥,plasma