High-precision curving process of Si wafer for X-ray MEMS mirror used in space application

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

07．ビーム応用 » 7.1 X線技術

2014年9月18日(木) 13:30 〜 15:30 PB1 (第2体育館)

ポスター掲示時間13:30～15:30(PB1会場)

13:30 〜 15:30

Rasadujjaman Md^1,2，^○倉島優一¹，前田敦彦¹，廣島洋¹，高木秀樹¹，近藤英一²，江副祐一郎³ (産総研集積マイクロRC¹，山梨大²，首都大³)

キーワード：MEMSミラー,メッキ,応力