13:30 〜 15:30
[18p-PB5-9] VHF-PECVDで形成したSiNx膜中の化学結合経時変化(Ⅲ)
キーワード：窒化シリコン膜,化学的気相成長,プラズマ成膜
講演情報
一般セッション(ポスター講演)
08．プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理
[18p-PB5-1~11] 8.3 プラズマ成膜・表面処理
2014年9月18日(木) 13:30 〜 15:30 PB5 (第2体育館)
ポスター掲示時間13:30～15:30(PB5会場)
一般セッション(ポスター講演)
08．プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理
2014年9月18日(木) 13:30 〜 15:30 PB5 (第2体育館)
ポスター掲示時間13:30～15:30(PB5会場)
13:30 〜 15:30
キーワード：窒化シリコン膜,化学的気相成長,プラズマ成膜