[19a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-A19-1] 450mmφシリコンエピタキシャル成長速度の数値計算

^○松井美沙子，羽深等 (横国大院工)

キーワード：化学気相堆積法