[19a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-A19-2] SiHCl₃-SiH_x系における気相・表面化学反応

^○齋藤あゆ美，桜井あゆみ，羽深等 (横国大院工)

キーワード：化学気相堆積法