2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:30 A19 (E311)

09:45 〜 10:00

[19a-A19-4] ラマン分光による電子線照射非晶質Ge薄膜の固相成長過程の評価

村上英司郎1,茂藤健太1,野満建至1,原英之2,西村浩人2,高倉健一郎1,角田功1 (熊本高専1,ブルカーバイオスピン2)

キーワード:固相結晶成長,電子線,Ge