2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:30 A19 (E311)

11:15 〜 11:30

[19a-A19-9] 量子分子動力学法に基づくシリコン酸化膜のエッチングプロセスにおけるエッチャントの堆積メカニズムの解明

○(D)伊藤寿1,桑原卓哉1,樋口祐次1,尾澤伸樹1,寒川誠二2,久保百司1 (東北大院工1,東北大流体研2)

キーワード:量子分子動力学,エッチング,シミュレーション