2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

06.薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[19a-PB2-1~11] 6.4 薄膜新材料

2014年9月19日(金) 09:30 〜 11:30 PB2 (第2体育館)

ポスター掲示時間9:30~11:30(PB2会場)

09:30 〜 11:30

[19a-PB2-3] 真空蒸着法向け低スプラッシュ一酸化ケイ素材料の作製

上嶌聡一郎,渡会孝典,堀江晴彦,堀江幸弘 (キヤノンオプトロン)

キーワード:一酸化ケイ素,真空蒸着,スプラッシュ