09:30 〜 11:30
[19a-PB4-9] キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化
キーワード:キセノンイオン注入,シリコンクラスレート
一般セッション(ポスター講演)
14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.1 探索的材料物性
2014年9月19日(金) 09:30 〜 11:30 PB4 (第2体育館)
ポスター掲示時間9:30~11:30(PB4会場)
09:30 〜 11:30
キーワード:キセノンイオン注入,シリコンクラスレート