09:30 〜 11:30
[19a-PB5-4] プラズマ発生領域制限マスクを用いたPCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining) によるSiC基板のダイシングの検討 - ベースガスとしてArを用いた検討 -
キーワード：SiC,プラズマ
講演情報
一般セッション(ポスター講演)
15．結晶工学 » 15.6 IV族系化合物
[19a-PB5-1~17] 15.6 IV族系化合物
2014年9月19日(金) 09:30 〜 11:30 PB5 (第2体育館)
ポスター掲示時間9:30～11:30(PB5会場)