[19a-S8-1~11] 8.1 プラズマ生成・制御

[19a-S8-4] ビーム法によるECR多価イオン源内の空間電位計測

^○熊倉翔，今井洋太，長家知生，西岡田卓也，佐藤文信，加藤裕史，飯田敏行 (阪大院工)

キーワード：ECR plasma,shallow junction